電解拋光
　　電解拋光的基本原理與化學拋光相同，就是靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，來讓表面光滑。與化學拋光相比，還可以消除陰極反應的影響，效果相當好。電化學拋光過程又可以分為兩步：
　�。�1）宏觀整平 溶解產物向電解液中擴散，材料表面幾何粗糙下降。
　�。�2）微光平整 陽極極化，從而讓表面光亮度提高。 
　　機械拋光
　　機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部來得到平滑面的拋光方法，通常是使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉體表面，可以讓使用轉臺等輔助工具，表面質量要求高的可以采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具，讓含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表面上，作高速的旋轉運動。利用這項技術可以達到表面粗糙度，是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具就是經常采用這種方法。
　　化學拋光
　　化學拋光就是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分比較凹部分能夠優先溶解，因此得到平滑面。這種方法的主要優點是不需要很復雜設備，就可以把拋光形狀復雜的工件，可以同時拋光很多的工件，而且效率還非常高。但是化學拋光的核心問題是拋光液的配制。